拓荆科技(688072)4月30日披露2025年第一季度报告领航优配，报告期内，公司实现营业收入7.09亿元，同比增长50.22%；实现净利润-1.47亿元；基本每股收益-0.53元。
拓荆科技是国内量产型PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体增强化学气相沉积）、超高深宽比沟槽填充CVD等薄膜沉积设备和混合键合设备的领军企业。
拓荆科技目前已经形成半导体薄膜沉积设备和混合键合设备两个产品系列。拓荆科技聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备领航优配。
近年来，拓荆科技收入持续保持高速增长态势，2019年至2024年营业收入复合增长率达74.83%。据之前披露的2024年年报，公司持续拓展产品布局，一方面加快产品迭代，另一方面推出有市场竞争力的新产品，业务规模不断扩大，报告期公司营业收入达到41.03亿元，同比增长51.70%。
对于一季度公司营业收入同比大增50.22%，拓荆科技表示，受益于国内下游晶圆制造厂对国内半导体设备的需求增加，公司不断突破核心技术，新产品的客户认可度逐步提升领航优配，核心竞争力进一步增强，报告期新产品实现批量验证，收入继续高速增长。
据介绍，报告期内，公司新产品、新工艺的设备销售收入占比近70%，其客户验证过程成本较高，毛利率同比下降。报告期末，公司发出商品同比增长94%，为增强客户端的响应速度并强化产品质量管控，其间费用投入同比增加5975.79万元，为后续业务的稳步增长提供了保障。
拓荆科技始终将自主创新视为发展的核心驱动，并持续进行高强度的研发投入，保持核心竞争优势。2025年第一季度，公司研发投入1.59亿元，占营业收入的比例为22.38%。公司2022年至2024年研发投入合计达到17.11亿元，占同期营业收入总额的20.09%。
在薄膜沉积设备方面，公司围绕先进存储芯片、先进逻辑芯片等制造领域的需求，持续推进多种型号高产能、高性能薄膜设备的研发与产业化应用，并取得突破性进展，逐步进入规模量产阶段；在三维集成领域设备方面，公司积极推进新一代先进键合产品及配套量检测产品的出货/验证，致力于为三维集成领域提供全面的技术解决方案。
另外，公司2025年第一季度经营活动产生的现金流量净额实现由负转正，较上年同期大幅增加，同比增加7.32亿元，主要由于报告期内公司发货量同比增加领航优配，报告期末在手订单金额较2024年年末增长，公司预收货款及销售回款较上年同期均大幅增长。
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